PIPS Ⅱ 精密離子減薄儀用于高質(zhì)量透射電鏡樣品的制備,它可精確定位減薄位置并對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制
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產(chǎn)品分類(lèi)VibroMet2振動(dòng)拋光機(jī)可通過(guò)幾乎水平方向的振動(dòng),搭配MasterMet2二氧化硅拋光液使用,可去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層,從而得到高質(zhì)量的拋光表面,而不必使用電解拋光制備所必需的危...
查看詳情AT-200M(熱原子層沉積系統(tǒng))
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查看詳情該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶(hù)的小型臺(tái)式設(shè)備。它經(jīng)濟(jì)實(shí)用、操作簡(jiǎn)單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費(fèi)用極低、維修便捷、容易操作。ALD專(zhuān)家教授實(shí)驗(yàn)室被廣泛使用。
查看詳情設(shè)備特點(diǎn):$n$n脈沖電閃基反應(yīng)器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應(yīng)系統(tǒng)包括兩個(gè)電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實(shí)時(shí)測(cè)試系統(tǒng)。
查看詳情市面上最小的ALD,可放進(jìn)手套箱,來(lái)自美國(guó)哈佛的原子層沉積系統(tǒng)$n兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥,具有超快 MFC,用于集成惰性氣體吹掃。
查看詳情kashiyama NeoDry-15G 真空泵產(chǎn)品特點(diǎn):$n·適合研究室等領(lǐng)域$n·無(wú)負(fù)荷運(yùn)行噪音小于45dB/36G:50dB(A)$n·選配Gas Ballast,...
查看詳情IM4000Ⅱ標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀使用低能量Ar離子束,加工無(wú)應(yīng)力損傷的樣品截面,為SEM觀(guān)察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、異物解析、層厚測(cè)量等提供有效的樣品前處理方法
查看詳情質(zhì)量保障 價(jià)格實(shí)惠 服務(wù)完善
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