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顯微成像橢偏儀結(jié)合了橢偏技術(shù)與光學(xué)顯微成像技術(shù)
2025-10-31 顯微成像橢偏儀是一種結(jié)合光學(xué)顯微成像與橢偏技術(shù)的儀器，主要用于測(cè)量薄膜厚度、折射率、吸收系數(shù)等參數(shù)，并獲取樣品表面的三維形貌分布。顯微成像橢偏儀基于橢圓偏振原理，通過(guò)分析入射偏振光經(jīng)樣品反射或透射后的偏振態(tài)變化，結(jié)合光學(xué)顯微成像技術(shù)，獲取樣品表面的三維形貌分布及薄膜厚度、折射率等光學(xué)參數(shù)。過(guò)程包括：光源與偏振控制：光源發(fā)出的光經(jīng)起偏器變?yōu)榫€偏振光，再通過(guò)補(bǔ)償器調(diào)整為特定偏振狀態(tài)(如橢圓偏振光)。樣品相互作用：偏振光入射到樣品表面，與樣品發(fā)生反射或透射，偏振狀態(tài)因樣品特性(如薄...深度解微納3D打印機(jī)實(shí)現(xiàn)高精度的核心原理
2025-10-23 微納3D打印機(jī)能在微米甚至納米尺度實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)制造，其高精度突破傳統(tǒng)制造技術(shù)的極限，核心在于“光-材料-控制”的協(xié)同優(yōu)化。一、核心原理：微納3D打印的本質(zhì)是通過(guò)高能量密度束流(如激光、電子束)或微滴噴射，在特定區(qū)域選擇性固化/熔融材料，逐層堆積形成三維結(jié)構(gòu)。以雙光子聚合(TPP)技術(shù)為例，其利用飛秒激光(波長(zhǎng)780-800nm，脈沖寬度GW/cm2)，使光敏樹(shù)脂(含光引發(fā)劑)在焦點(diǎn)處發(fā)生雙光子吸收(傳統(tǒng)單光子吸收僅在激光路徑線性吸收，而雙光子吸收需兩個(gè)光子同時(shí)作用于同一...核心技術(shù)揭秘：離子濺射儀的工作原理與獨(dú)特設(shè)計(jì)特點(diǎn)剖析
2025-10-18 離子濺射儀是制備高純度、高結(jié)合力金屬/化合物薄膜的核心設(shè)備，其通過(guò)離子轟擊靶材實(shí)現(xiàn)原子級(jí)沉積，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、光學(xué)器件及納米材料領(lǐng)域。理解其工作原理與設(shè)計(jì)特點(diǎn)，是優(yōu)化薄膜性能的關(guān)鍵。一、工作原理：離子濺射的核心是“動(dòng)量轉(zhuǎn)移”。設(shè)備通過(guò)氣體放電(通常為氬氣，純度99.999%)產(chǎn)生等離子體(含大量Ar?離子)，在高壓電場(chǎng)(通常-300V至-1000V)作用下，Ar?離子加速轟擊靶材(如金屬鈦、氧化物陶瓷)表面。離子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞，將動(dòng)能傳遞給靶材原子(單個(gè)Ar?離...壓電陶瓷高壓極化儀主要用于對(duì)壓電陶瓷材料進(jìn)行極化處理
2025-09-26 壓電陶瓷高壓極化儀通過(guò)施加直流電場(chǎng)使其內(nèi)部電疇沿電場(chǎng)方向排列，從而賦予材料壓電性能。壓電陶瓷在極化前，各晶粒內(nèi)的自發(fā)極化方向隨機(jī)分布，導(dǎo)致材料整體無(wú)壓電效應(yīng)。極化儀通過(guò)施加高電壓并控制溫度、時(shí)間參數(shù)，迫使電疇沿電場(chǎng)方向定向排列，形成單疇結(jié)構(gòu)，使材料獲得宏觀的壓電性能。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于超聲換能器、水聲/電聲設(shè)備、醫(yī)學(xué)成像、傳感器等需要壓電材料的領(lǐng)域。?壓電陶瓷本身不具備壓電性能，需通過(guò)人工極化處理實(shí)現(xiàn)電疇定向排列。其核心機(jī)理是：在陶瓷樣品兩端施加足夠強(qiáng)度的直流電場(chǎng)(通常3-5k...課題組的寵兒--科研專用臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)（臺(tái)式ALD)
2025-08-18 一臺(tái)來(lái)自哈佛大學(xué)的原子層沉積系統(tǒng)一臺(tái)科研用的原子層沉積系統(tǒng)一臺(tái)備受課題組歡迎的ALD市面上小而美的ALD您值得擁有！！盈思拓(Insontech)----AnricTechnologies公司中國(guó)區(qū)總代表處AnricTechnologies成立于2014年，由哈佛大學(xué)ALD工藝著名專家RoyGordon教授組的研究人員創(chuàng)立，旨在填補(bǔ)市場(chǎng)小型臺(tái)式原子層沉積(ALD設(shè)備)的空白，是為大學(xué)、初創(chuàng)企業(yè)、探索原子層沉積(ALD)技術(shù)的公司、啟動(dòng)試點(diǎn)生產(chǎn)線以及專業(yè)制造商提供設(shè)計(jì)和優(yōu)化的工...氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)的維護(hù)保養(yǎng)：腔體清潔與部件更換
2025-07-21 氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)的穩(wěn)定運(yùn)行高度依賴腔體潔凈度和部件性能，科學(xué)的維護(hù)保養(yǎng)可使薄膜沉積均勻性提升15%，設(shè)備故障間隔延長(zhǎng)至1000小時(shí)以上。腔體清潔與部件更換需遵循“預(yù)防為主、分級(jí)維護(hù)”原則，針對(duì)不同污染類型和部件損耗特性制定精準(zhǔn)方案。?腔體清潔需按污染程度分級(jí)處理。輕度污染(沉積薄膜厚度20μm)需使用超聲清洗：將可拆部件放入盛有5%氫氟酸溶液的超聲槽(頻率40kHz)，清洗15分鐘后用去離子水沖洗至pH=7，烘干后裝配(避免裸手接觸，需戴潔凈手套)。?關(guān)鍵部件的更換需把握壽...膜厚測(cè)試千里眼，選區(qū)觀測(cè)1µm - 市面上的高分辨率顯微成像橢偏技術(shù)
2025-07-17 產(chǎn)品技術(shù)簡(jiǎn)介有別于傳統(tǒng)橢偏儀，這是新一代的顯微成像橢偏儀技術(shù)，它有機(jī)地結(jié)合了傳統(tǒng)光譜橢偏儀和光學(xué)顯微鏡技術(shù)，使得我們能夠在小至1µm的微結(jié)構(gòu)上以橢偏儀的靈敏度表征薄膜厚度和折射率。顯微鏡部分能夠同時(shí)測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)全視場(chǎng)范圍內(nèi)的所有結(jié)構(gòu)。傳統(tǒng)的橢偏儀注重于測(cè)量整個(gè)光斑，而不能實(shí)現(xiàn)高精度的橫向分辨率，并且需要逐點(diǎn)測(cè)量。該設(shè)備的顯微鏡功能使得我們能夠獲得微觀結(jié)構(gòu)的橢偏增強(qiáng)對(duì)比圖像，在相機(jī)的實(shí)時(shí)圖像中可以看到折射率或厚度的微小變化。允許識(shí)別橢偏測(cè)量的感興趣區(qū)域（選區(qū)測(cè)量），...關(guān)注公眾號(hào)
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